Badania związane z kiełkowaniem roślin zostało wykonane od 26.06 do 12.07. Przebadanych zostało wstępnie 12 próbek dla 3 różnych gatunków roślin: szpinak zimowy olbrzym, burak ćwikłowy, słonecznik. Dla każdego gatunku obserwowano kiełkowanie roślin kultywowanych w identycznych warunkach dla nasion grupy kontrolnej, grupy potraktowanej plazmą 1 min, 3 min, 5 min przy użyciu gazu procesowego o składzie hel: 0,1m3/h tlen: 0,02l/min.
Na podstawie zdjęć uzyskanych z przeprowadzonych obserwacji można ustalić że najlepsze rezultaty osiągnięto przy zastosowaniu plazmy przez czas 1 minuty. Można zaobserwować że w grupie kontrolnej osiągnięto podobne rezultaty co w grupie poddawanej działaniu plazmy przez 5 minut. Najgorsze rezultaty uzyskaliśmy w grupie poddawanej działaniu plazmy przez 3 minuty.
Obróbka plazmowa:
Reaktor DBD; gazy robocze: hel 0,1 m3/h, tlen 0,02 l/min; odległość 22 mm
Opis:
Porównując grupy poddane obróbce plazmowej z grupą kontrolną, nie stwierdza się pozytywnego ani negatywnego wpływu plazmy; rośliny zachowują się podobnie, zarówno pod względem prędkości wzrostu, jak i ilości kiełkujących nasion.
Obróbka plazmowa:
Reaktor DBD; gazy robocze: hel 0,1 m3/h, tlen 0,02 l/min; odległość 22 mm
Opis:
Porównując grupy poddane obróbce plazmowej z grupą kontrolną, nie stwierdza się pozytywnego ani negatywnego wpływu plazmy; rośliny zachowują się podobnie, zarówno pod względem prędkości wzrostu, jak i ilości kiełkujących nasion.
Obróbka plazmowa:
Reaktor DBD, gaz roboczy: hel, przepływ: 2 m3/h, temperatura zjonizowanego gazu: 42 ˚C.
Opis:
Wszystkie próbki podczas obserwacji poddane były takim samym warunkom środowiskowym: przechowywane były w warunkach pokojowych, o zmiennym natężeniu światła naturalnego. Każdą z grup podlewano wodą destylowaną raz dziennie (10 ml).
W porównaniu do grupy kontrolnej, wszystkie nasiona poddane obróbce plazmowej charakteryzowały się przyspieszonym wzrostem. Pod względem szybkości kiełkowania, jak i rozmiarów łodygi pod koniec eksperymentu (12 dzień), najlepsze wyniki uzyskano dla suchych nasion poddanych obróbce plazmowej trwającej 5 minut. Pierwsze nasiona zaczęły kiełkować już 3 dnia (w grupie kontrolnej 9 dnia), grupa charakteryzowała się też równoczesnym wzrostem wszystkich nasion, gdzie w przypadku pozostałych grup, niektóre z nasion nie zakiełkowały przez cały okres eksperymentu. Gorsze wyniki uzyskano dla grupy traktowanej plazmą przez 1 minutę. Z kolei dla nasion, które podczas obróbki plazmowej były zwilżone, lepsze wyniki uzyskano dla krótszego czasu – 1 minuty. Różnice w wynikach uzyskanych dla nasion suchych i mokrych mogą być związane z optymalnym czasem obróbki plazmowej, który może być inny dla różnych wilgotności powierzchni, do której dociera strumień zjonizowanego gazu.
Badania wymagają powtórzenia i dalszej kontynuacji w celu optymalizacji warunków przebiegu procesu.
Pomiar temperatury został wykonany przed przeprowadzeniem badań nad wpływem wyładowań na bakterię E-coli. Temperatura nie przekracza 53◦C co oznacza że w tej odległości przy pomiarze wpływu wyładowań na bakterie E-coli nie będzie wpływu temperatury na wyginięcie bakterii ponieważ bakteria ta mimo swojej słabej odporności na wyższe temperatury ( Ginie po 20 min w temperaturze 60◦C) w naszym badaniu temperatura nieznacznie wpłynie na bakterie. Następnie zostały przeprowadzone pomiary, na próbkę wykonaną z teflonu o wymiarach 2,5 cm została naniesiona warstwa kultur bakterii E-coli o znanej koncentracji. Wykonanych zostało 10 próbek, każda przy różnych mieszankach gazów(azotu, tlenu i dwutlenku węgla) z wyładowaniem i bez. Odległość próbki od elektrod 31mm, odległość próbki od dyszy 121mm czas traktowania 2min
Przed przystąpieniem do badania bakterie Escherichia coli BW 25 113 została przesiana posiewem redukcyjnym na płytkę z podłożem LB*. Płytka była inkubowana w temperaturze 35ºC przez noc w wytrząsarce 400rpm, 3×10μL nocnej hodowli zostało suszone w temperaturze 35◦C przez 30min. Następnie próbka była poddana plazmowaniu zgodnie z wcześniejszymi parametrami. Na koniec do próbki dodano roztwór 10 μL NaCl (chlorek sodu) i poddano ją wirowaniu w celu odzyskania mikroorganizmów z powierzchni teflonu i poddania ich dalszej kultywacji.
Badania emisji elektromagnetycznej w odniesieniu do kompatybilności elektromagnetycznej urządzeń i instalacji to pomiary przeprowadzane wg specjalnych procedur i porównywanie zmierzonych wartości z poziomami określonymi jako dopuszczalne limity w normach.
Badania i określanie kompatybilności elektromagnetycznej to procedura która bezwzględnie musi zostać przeprowadzona na każdym wyrobie który ma zostać wprowadzony na rynek. Podstawą prawną jest Dyrektywa Unijna, która obowiązuje wszystkie kraje członkowskie. Za brak deklaracji ECM (a więc i badań) można otrzymać karę.
W zakresie badania emisji rozróżnia się testy:
badanie zakłóceń przewodzonych 9kHz-30MHz
badanie mocy zaburzeń w zakresie 30MHz-300MHz
badanie zakłóceń promieniowanych w zakresie częstotliwości 30MHz – 1GHz
Aparatura instytutu IEiE do testów 0.03 - 3 GHz miernik zakóćeń – odbiornik pomiarowy ESCI3, oraz zestaw anten pomiarowych, każda jest dedykowana do innego pasma pomiarowego
Temperatura: 23◦C
Wilgotność: 20%
Ciśnienie: 1000hPA
Przepływ gazu:
Hel:0,08m^3/h
Pomiary realizowane są dla dwóch polaryzacji anten, poziomej i pionowej.
Na powyższym widać wyniki badań dla ustawienia anten pionowo.
Z otrzymanych wartości po porównaniu emisji reaktora z tłem (czyli w czasie kiedy reaktor był wyłączony) widać że reaktor nie wnosi żadnych zaburzeń , przekroczenia jakie zaobserwowano są efektem działania innych instalacji – np. w paśmie ok. 100MHz to nadające radia, telewizja cyfrowa, gsm, wifi.
Pod uwagę bierzemy pomiary detektorem średnim (kolory czerwony i zielony) detektor wartości maksymalnej , jest detektorem pomocniczym.
Tak jak wspomniano wyżej – detektor maksymalny jest pomocniczy, ale tu pokazuje z jakimi potencjalnymi gradientami zaburzeń można mieć do czynienia.
Dyskwalifikujący jest natomiast pik czerwony w zakresie ok. 160 MHz. On pokazuje ze reaktor przekracza limity – więc urządzenie nie jest kompatybilne.
Oczywiście pomiary będą wymagały powtórzenia w lepszym środowisku, pomieszczenie laboratorium plazmy nie jest najlepszym miejscem ale dzięki temu znamy ścieżkę dalszych naszych badań.
Pomiary kompatybilności są konieczne w zakresie określania jakości urządzeń
Konieczne są dodatkowe dokładniejsze badania w tym zakresie.
Nie wiesz gdzie zacząć? Specjalnie dla Ciebie stworzyliśmy przewodnik, dzięki któremu poznasz nas bliżej.